안녕하세요 교수님

저는 C2H2 플라즈마 코팅을 공부하고 있는데요.

실험시에 가스 방출의 문제가 있어서 질문드립니다.

 

먼저, 대상 금속은 크롬강에 경질크롬도금을 한 육면체에 C2H2 가스를 플라즈마

형태로 분사하여 플라즈마 코팅을 하고 있습니다.

그런데, 코팅을 하고 나면 드문드문 하얗게 동그란 형태 또는 액체가 흘러내린

현태로 가스가 배출되어 배출된 면에 코팅이 되어 가지고 해결 워인을 찾고 

있습니다.

 

제가 아는 상식선에서 통상 가스는 경질크롬도금을 할 때 황산욕, 또는 크롬산욕을

하는 과정에서 수소가 크롬도금층에 생성되므로 이것을 약 170℃ 정도로 장시간

열처리 하면 가스가 빠지는 것으로 아는데, 

열처리를 하고 나서 세척후 코팅을 하면 꼭 한두 포인트씩 가스가 나오고 있습니다.

 

그래서 의문이 생겼는데, 이 가스가 경질 크롬 도금에서 나오는 것이 아니라 혹시

C2H2의 성분상의 가스가 이온분리되면서 나타나는 가능이 없는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76874
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92696
» C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 10
796 Druyvesteyn Distribution 13
795 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 22
794 플라즈마 식각 커스핑 식각량 26
793 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 41
792 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 60
791 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 64
790 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 65
789 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 71
788 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 71
787 플라즈마 설비에 대한 질문 71
786 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 75
785 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 79
784 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 91
783 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 94
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 116
781 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 117
780 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 120
779 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 138
778 Microwave & RF Plasma [1] 138

Boards


XE Login