안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5808
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17215
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53068
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64485
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85100
458 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 1272
457 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1277
456 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1277
455 RF matcher와 particle 관계 [2] 1298
454 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1300
453 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1304
452 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1306
451 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1324
450 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1335
449 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1339
448 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1350
447 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1362
446 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1365
445 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1367
444 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1369
443 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 1375
442 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1376
441 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 1382
440 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1394
439 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1427

Boards


XE Login