Others N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점

2022.05.12 00:29

윤태화 조회 수:1360

안녕하세요. 반도체회사에서  PECVD 장비를 하고있는 윤태화입니다.

 

GAS 종류에 따른 Plamsa 진행시 차이점이 있는지 궁금합니다.

 

1. N2 Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

2. N2O Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

3. N2 / N2O  두 Gas의 Plasma 차이점 

4. N2 및 N2O GAS 사용으로 Plasma 4~5분 노출 시 챔버 내부 변색 가능성? 한두달 뒤 변색이 될 가능성..

 

위 4개 질문드립니다. 

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [256] 76402
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19990
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68537
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91305
536 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1158
535 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1167
534 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1183
533 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1185
532 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1193
531 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1204
530 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1211
529 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1216
528 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1218
527 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1225
526 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1243
525 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1254
524 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1263
523 플라즈마 기초입니다 [1] 1270
522 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1274
521 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1282
520 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1288
519 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1296
518 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1297
517 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1300

Boards


XE Login