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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering]
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532 |
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
[1] | 1645 |
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플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor]
[1] | 1653 |
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RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
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529 |
잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드]
[1] | 1666 |
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강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net]
[2] | 1672 |
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I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석]
[1] | 1674 |
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플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건]
[2] | 1684 |
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525 |
Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
[3] | 1685 |
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Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정]
[2] | 1705 |
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523 |
O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model]
[1] | 1708 |
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522 |
low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전]
[1] | 1727 |
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521 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning]
[1] | 1733 |
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플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature]
[1] | 1735 |
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Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching]
[1] | 1740 |
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518 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning]
[1]  | 1742 |
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517 |
MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
[3] | 1756 |
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Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘]
[1] | 1759 |
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515 |
CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실]
[1] | 1763 |
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514 |
ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의
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