ESC 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의..

2013.06.13 15:05

보탱 조회 수:6498

안녕하세요.

저는 정전척 제조 회사에 근무하고 있는 서보경입니다.

정전척 관련하여 궁금한 것이 있어 이렇게 문의를 드리게 되었습니다.

자사 5.5세대 정전척 제품이 공정 진행 후 Gate 앞쪽 부위의 외각 He-hole 부위에 burning 현상이 많이 나타납니다.

이러한 현상은 glass를 chucking 하기 전에 이미 plasma 가 유입이 되어 이로 인하여 burning 현상이 나타나는 것으로 예상을

하고 있는데요. 그렇다면 이 현상에 대해 메카니즘이 어떻게 되는 것인지 궁금합니다.  

도움을 주시면 정말 감사하겠습니다.

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76939
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20311
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57230
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68782
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92765
500 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
499 Ar plasma power/time [1] 1447
498 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1456
497 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1460
496 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1460
495 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
494 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1470
493 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1471
492 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1472
491 알고싶습니다 [1] 1472
490 ICP lower power 와 RF bias [1] 1475
489 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1480
488 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1481
487 charge effect에 대해 [2] 1484
486 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1515
485 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1526
484 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1530
483 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1539
482 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1539
481 plasma 형성 관계 [1] 1558
쓰기
태그

Boards

XE Login