Matcher Impedence 위상관련 문의..

2017.06.30 04:39

메탈 조회 수:1464

안녕하세요. 전에도 몇번 질문드렸었습니다만,, 반도체 관련회사에서 근무하고 있습니다.

RF (ICP)장비를 다루고 있는데 impedence 위상관련해서 문의 좀 드리려고 합니다.


impedence 매칭은 저항과 위상으로 조정하데..

공정 parameter (Ar pressure , AC power 등)의 변화로 위상이 변화할수 있을까요?

변화된다면 어떤 이유로 변화되는지 조금 자세하게 설명을 듣고 싶습니다..


그리고 정말 죄송한데 smith chart program 을 사용하고 싶은데..도움 받을 site가 있을까요?

검색해서 찾아봐도 알수 없는 site로 이동이 되서...찾기가 어렵습니다만..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76751
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20217
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57170
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68707
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92310
490 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1460
489 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1463
» Impedence 위상관련 문의.. [1] 1464
487 charge effect에 대해 [2] 1465
486 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1489
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1502
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1507
483 plasma 형성 관계 [1] 1518
482 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1519
481 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1522
480 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1533
479 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1562
478 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1600
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1604
476 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1609
475 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1611
474 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1651
473 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1661
472 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1661
471 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1671

Boards


XE Login