안녕하세요. 세라믹 ESC 엔지니어 입니다.

 

상황: RF전극삽입 세라믹평면(+)과 금속평면(-)의 ESC force 향상이 주요 목적입니다.

500도 이상의 고온 환경입니다.

 

질문 1: 인가전압을 증가하여 ECS의 증가하려고 했는데. 아래 같이 1000V 이상에서 추가적인 향상이 미미합니다.

계산상 인가전압의 제곱으로 상승해야하나, 그렇지 못한 상황인데, 이럴 경우 가장 의심되는 상황이 있을까요?

 

- 표면에서 방전 (외관상 아킹의 흔적은 없습니다.)

- 터널링 전자의 이동의 급격한 증가

- 표면타고 전하 누설

- 기타

 

 

인가전압 500V 1000V 1500V
계산값 (J-R + classic) 2.7 10.9 24.5
측정값 3.3 8.5 9.0

 

 

질문 2: 세라믹 표면에 C라던지 상대면의 금속이라던 소량 발견되는데 이러한 metallic한 물질이 ECS의 저하의 원인이 될까요?

 

- 표면 방전에 영향을 준다. 등등.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102621
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24654
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61355
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73437
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105741
813 Druyvesteyn Distribution 369
812 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 372
811 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 383
810 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 387
809 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 391
808 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 401
807 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 402
806 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 405
805 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 410
804 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 412
803 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 416
802 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 424
801 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 426
800 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 426
799 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 429
798 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 431
797 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 432
796 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 437
795 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 437
794 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 447

Boards


XE Login