안녕하세요. 서울대학교 재료공학부 오규환 교수님 연구실 박사과정 정제준입니다.

SiC 샘플에 plasma etching을 하려고 하는데 CF4 or O2 플라즈마를 이용해서 실험을 해보려고 합니다.

1. 플라즈마 응용연구실에서 장비가 있다면 사용이 가능한지요?

2. SiC etching에 다른 플라즈마 소스를 추천해주신다면 어떤게 있을까요?

3. 장비가 없으시면 다른곳을 추천해주시면 감사하겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76875
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92698
417 Wafer particle 성분 분석 [1] 2332
416 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2336
415 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2338
414 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2342
413 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2344
412 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2344
411 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2347
410 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2351
409 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2352
408 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2360
407 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2362
406 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2362
405 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2362
404 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2399
» plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2435
402 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2443
401 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2452
400 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2491
399 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2493
398 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2520

Boards


XE Login