OES Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.

2020.09.11 17:48

박지태 조회 수:3234

안녕하세요.


우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다


Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.

실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.

가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75775
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19458
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56674
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68038
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90335
378 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 2763
377 CVD 공정에서의 self bias [1] 2764
376 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2778
375 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 2836
374 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 2850
373 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2917
372 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 2925
371 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2968
370 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3064
369 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3078
368 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3107
367 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3120
366 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3144
365 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3185
364 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3193
363 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3210
362 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3234
» Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3234
360 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3240
359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3303
쓰기
태그

Boards

XE Login