안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78047
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20850
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57738
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93636
439 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2113
438 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2118
437 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 2125
436 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2131
435 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 2177
434 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2202
433 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2212
432 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2216
431 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2248
430 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2253
429 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2275
428 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2277
427 플라즈마볼 제작시 [1] file 2298
426 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2305
425 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2324
424 etching에 관한 질문입니다. [1] 2354
423 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2373
422 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2374
421 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2376
420 Wafer particle 성분 분석 [1] 2380

Boards


XE Login