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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
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337 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4504
336 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4831
335 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5009
334 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5078
333 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5167
332 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5304
331 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5465
330 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5555
329 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5681
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327 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5880
326 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5923
325 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5933
324 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6023
323 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6075
322 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6197
321 자료 요청드립니다. [1] 6208
320 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6262
319 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6280
318 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6368
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