Etch 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량

2023.02.09 13:21

텅스텐 조회 수:363

안녕하세요. 반도체 회사 재직중인 설비엔지니어입니다.

 

텅스텐 DEPO 설비 유지보수 중에 RF Plasma를 통한 텅스텐 Cleaning에 문제점이 생겨 조언을 얻고자 질문드립니다.

 

텅스텐 Plasma Clean 조건

2100W Generator Power / C2F6 : O2 (1:1 비율) / 300mTorr Chamber Pressure / 13.56MHZ Matcher

 

Plasma Cleaning 진행 중 깜빡깜빡이는 현상이 확인되며 PM을 하고자 Chamer Open 했을 때

텅스텐이 Etching 되지 않고 Heater 및 Shower Head에 텅스텐이 그대로 남아있는 현상이 발생했습니다.

 

관련하여 챔버에 압력/Clean gas/RF 계통의 Part들을 교체해 보고 있으나 현상이 개선되지 않아

플라즈마 깜빡깜빡이는 현상이 Etching 효율을 떨어뜨리는 걸로 보이는데 문제점이 무엇일지 조언 받고싶습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76701
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20156
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68682
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92222
747 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 304
746 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 309
745 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 313
744 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 314
743 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 317
742 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 319
741 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 326
740 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 340
739 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 341
738 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 346
737 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 349
736 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 349
735 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 353
734 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 355
» 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 363
732 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 370
731 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 373
730 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 384
729 plasma modeling 관련 질문 [1] 386
728 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 388

Boards


XE Login