현재 반도체회사에서 CVD 엔지니어로 근무중에 있습니다.

최근 CuSi 공정에서 지속적으로 Thickness에 문제가 발생하여 Wafer Map을 확인하게 되면 Compressive한 Map으로 관찰되고 있습니다.

Wafer를 Compressive하게 변화하게 만드는 source가 대부분 어떤게 있는지 알 수 있을까요? (Ex. AlF, Plasma, Temp ETC)

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [301] 78015
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20833
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57735
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69249
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93625
777 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 188
776 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 193
775 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 209
774 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 211
773 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 214
772 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 218
771 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 224
770 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 231
769 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 231
768 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 244
767 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 245
» Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 267
765 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 267
764 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 268
763 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 275
762 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 276
761 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 278
760 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 280
759 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 288
758 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 314

Boards


XE Login