Others wafer 전하 소거: 경험 있습니다.

2004.06.25 16:44

관리자 조회 수:20606 추천:319

te8500에서 금속재질의 four-pin으로 dechucking을 시키는 경우도 있구요...이것은 쉽구요...back면 acring만 제어해주면 됩니다.

  저도 부도체 재질의 four-pin사용시 gas만으로 dechucking이 가능한지 궁금했습니다.
  dechucking을 위해서 plasma을 생성시 원하지 않는 etch가 되기때문에 risk가 있습니다.

  저희 교수님께 문의한 결과 고압에서 gas flow만으로도 충분히 wafer의 전하를 chamber wall 로 전달할수 있다고 하시던데요...

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103272
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24710
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61515
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105936
254 remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 14947
253 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 15188
252 산업용 플라즈마의 특성 [Thermal Plasma와 Cold Plasma] 15310
251 박막 형성 [ICP와 MOCVD] 15390
250 우주 플라즈마 [Plasma의 온도와 밀도] 15475
249 In-flight plasma process [Remote Plasma와 Plasma Torch] 15624
248 핵융합반응/플라즈마 15673
247 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 15693
246 플라즈마와 비행기에 미쳤거든여…^ _ ^ ; [플라즈마 우주선 추진 엔진] 15774
245 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 15805
244 PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] 15876
243 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15997
242 Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?.. 16017
241 ICP TORCH의 냉각방법 [냉각수와 와류] 16029
240 k star [기초과학지원 연구원] 16039
239 corona [Streamer와 Impurity] 16067
238 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 16101
237 Sputter 16113
236 Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction] [1] 16118
235 역 수소폭탄에 대하여… [핵융합에 필요한 요소들] 16188
쓰기
태그

Boards

XE Login