Etch Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계.

2020.08.05 14:15

티거짱76 조회 수:700

안녕하세요.

저는 Etch 장비를 개발하는 설계 엔지니어 입니다.

궁금한게 있어 문의 드립니다.

열은 기본적으로 높은데서 낮은데로 이동한다고 알고 있습니다.

예를 들어  Vacuum Chamber(Etching) 내에서 Chamber의 Top면을 100도로 히팅하고 Side쪽을 80도로 히팅하고 

Wafer를 Chucking하는 ESC를 50도로 히팅한다고 하면  열의 이동이 top -> side -> esc로 이동을 합니다.

(단, 여기서 Pump는 Close라고 가정합니다.)

그러면 Etching하고 난 Byproduct의 이동도 열의 이동과 같은 방향으로 움직일까요?

혹시 맞다면 어떤 이유로 그렇게 되는지 설명을 부탁드립니다.

제가 이부분에 대해 좀 더 공부하고 싶은데 어느 부분을 공부해야 하는지 조언 부탁드릴께요.

감사합니다.




이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [130] 5621
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16924
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51353
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64229
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84334
573 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 643
572 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 649
571 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 650
570 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 652
569 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 657
568 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 659
567 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 672
566 플라즈마 충격파 질문 [1] 678
565 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 682
564 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 682
563 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 689
562 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 691
561 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 695
» Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 700
559 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 702
558 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 704
557 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 709
556 문의 드립니다. [1] 716
555 플라즈마 챔버 [2] 719
554 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 720
쓰기
태그

Boards

XE Login