Others ICP 후 변색 질문
2018.01.23 19:11
안녕하십니까.
현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.
ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.
BCl3 gas를 이용한 ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.
황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)
이와 관련.
1. Oxygen의 숫자 부족
2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.
Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.
혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.
어떠한 내용이라도 좋습니다.
위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.
ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78037 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20846 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57737 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93631 |
| 679 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 631 |
| 678 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 633 |
| 677 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 633 |
| 676 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 651 |
| 675 |
진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문
[1]  | 652 |
| 674 |
Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다.
[1] | 656 |
| 673 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 659 |
| 672 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 665 |
| 671 | Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] | 666 |
| 670 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 669 |
| 669 | PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] | 673 |
| 668 |
RF Sputtering Target Issue
[2] | 677 |
| 667 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 680 |
| 666 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher] [2] | 683 |
| 665 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 687 |
| 664 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 689 |
| 663 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 689 |
| 662 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 691 |
| 661 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 705 |
| 660 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 706 |