안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5858
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17323
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53141
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64541
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85151
538 고진공 만드는방법. [1] 842
537 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 842
536 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 847
535 plasma 형성 관계 [1] 847
534 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 850
533 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 853
532 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 853
531 공정플라즈마 [1] 863
530 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 865
529 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 873
528 wafer bias [1] 877
527 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 881
526 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 881
525 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 881
524 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 881
523 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 882
522 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 888
521 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 899
520 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 906
519 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 914

Boards


XE Login