안녕하세요. ETCH 쪽에서 ENG'R로 근무중인 현직자입니다.

 

업무 중 궁금점이 생겨 간단하게나마 공부 후 질문내용 정리하여 문의드립니다.

 

상황
ICP 설비에서 BIAS REFLECT POWER를 줄이기 위하여 RF FREQUENCY TUNE을 이용한 상황입니다.
FREQUENCY TUNE을 사용하면 임피던스 Z가 변하면서 REFLECT POWER가 변하며, FORWARD POWER는 임피던스 Z와 Vpp에 영향을 받는 것으로 알고 있습니다.


질문
  1. 현재 설비는 VOLTAGE MODE를 사용중인데, 이때 Generator에서 인가하는 Voltage가 Vgen이라고 하면 BIAS RF VOLTAGE = Vgen = Vpp 동일한 값을 가지는지 궁금합니다.

 

  2-1 동일하다면, VOLTAGE MODE에서는 FREQUENCY 가변을 하게되면 임피던스의 변화에 따라 BIAS FORWARD POWER가 변한다는 가정이 옳다고 볼 수 있을까요?

  2-2 FORWARD POWER가 변한다는 가정하에, REFLECT POWER 역시 변할텐데, 결과적으로 LOAD POWER도 같이 변할 것으로 생각되는데 해당 가설이 적절한가요?
 
  3. POWER MODE에서는 FORWARD POWER가 SET된 값으로 인가되기때문에 RF Frequency 가변에 따라 Vpp값도 변하여 Forward POWER는  일정한게 맞을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
637 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 732
636 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 736
635 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 744
634 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 747
633 교수님 질문이 있습니다. [1] 760
632 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 761
631 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 761
630 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 763
629 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 771
628 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 777
» RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 782
626 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 786
625 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 788
624 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 793
623 Collisional mean free path 문의... [1] 794
622 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 802
621 플라즈마 충격파 질문 [1] 804
620 라디컬의 재결합 방지 [1] 806
619 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 807
618 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 813

Boards


XE Login