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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73525
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105969
434 질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포] [1] 2977
433 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 2973
432 플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light] [1] 2972
431 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 2966
430 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2941
429 Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching] [1] 2941
428 PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning] [1] 2941
427 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [대기압 플라즈마와 라디컬 생성] [1] 2925
426 DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect] [1] 2924
425 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [Ionization collision 및 Effective ionization energy] [1] 2910
424 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간] [2] 2886
423 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2884
422 매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산] [1] 2851
421 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control] [1] 2844
420 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking] [1] 2831
419 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2829
418 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2818
417 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2816
416 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2815
415 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2814
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