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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77242
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57374
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68904
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
406 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2504
405 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2478
404 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2442
403 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2436
402 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2432
401 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2406
400 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2406
399 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2395
398 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2392
397 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2391
396 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2378
395 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2370
394 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2370
393 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2365
392 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2360
391 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2351
390 Wafer particle 성분 분석 [1] 2349
389 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2349
388 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2337
387 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2337

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