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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55519
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65710
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86058
306 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1990
305 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 1975
304 질문있습니다. [1] 1972
303 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1948
302 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1921
301 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1866
300 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1863
299 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 1860
298 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1853
297 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1848
296 가입인사드립니다. [1] 1816
295 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1797
294 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1795
293 chamber impedance [1] 1794
292 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1780
291 etching에 관한 질문입니다. [1] 1767
290 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1748
289 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 1729
288 CVD 공정에서의 self bias [1] 1728
287 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1724

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