CVD 설비에서 GENERATOR에서 온 AC POWER는 MATCHER를 거쳐 S/H로 공급되는데요

 

MATCHER ~ S/H간 연결 방식이 장비 MAKER마다 다른데 특별한 이유가 있나요?

 

어느 설비는 단단하게 고정된 CU, AG 재질을 쓰는 곳이 있고, 어느 설비는 얇은 끈, 전선같은 방식을 채택하기도 하던데

 

RF 전송 PATH의 굵기, 곡률(직각, 직선, 곡률이 있는경우), 재질과 같은 H/W적 요소가 IMPEDANCE MATHCING에 어떤 영향을 미치나요?

 

어떤 내용이나 자료를 공부하면 알 수 있나요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76815
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20242
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92572
315 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1535
314 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1528
» IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1523
312 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1510
311 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1509
310 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1501
309 charge effect에 대해 [2] 1467
308 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
307 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1465
306 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1465
305 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1464
304 알고싶습니다 [1] 1463
303 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1461
302 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1456
301 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1455
300 ICP lower power 와 RF bias [1] 1451
299 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1451
298 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1444
297 Ar plasma power/time [1] 1439
296 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1434

Boards


XE Login