CCP CCP Plasma 해석 관련 문의

2022.08.30 15:27

플라즈마공부 조회 수:356

 

안녕하세요 Plasma 해석 관련 공부 하고 있는 석사 과정 학생입니다. 

다름이 아니라, Plasma 해석 관련하여 몇가지 테스트를 진행하던 도중 궁금한 부분이 있어 질문드립니다.

 

1. 이미지와 같이 CCP Plasma 를 2D Axisymmetry 구조로 단순화하여 상용 S/W 를 통해 해석하고 있는데,

플라즈마 전자 밀도 분포가 Test Result2, 3 와 같이 Center Peak 점이 발생하였습니다. (13.56M, Ar only, Electrode Gap 30mm)

해석 조건 중 Test1 : 200V(약 13W), Test2 : 200W, Test3 : 500W 로 Bias Power만 상이 합니다.

기존에 해석된 예시의 그림을 보면 Test Result1과 같이 나와야 하는 것으로 알고 있습니다. 

해당 결과를 어떻게 봐야할지 모르겠습니다. 실제로 Electric Potential, Te, Ne값들이 일정한 값으로 수렴했습니다...

이러한 형상의 플라즈마가 형성될 수 있는 건가요? 도움 부탁드립니다...

 

2. 위 문제와 별개로 Wall(확산영역) Permittivity가 증가함에 따라 플라즈마 전자 밀도 변화에 대해 해석하였을때,  분포의 구배가 변하진 않지만, 전체적인 전자 밀도가 상승하였습니다. 해당 현상의 가장 주요한 원인이 벽면에서의 전위차의 크기가 바뀌어 플라즈마에 작용한 전기장의 세기가 커졌기 때문이라고 생각합니다. 이렇게 접근하는게 맞는지 궁금합니다...

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5591
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16864
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51345
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64200
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84175
31 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 303
30 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 302
29 Plasma Arching [1] 295
28 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 295
27 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 294
26 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 289
25 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 283
24 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 250
23 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 236
22 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 236
21 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 219
20 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 202
19 RPSC를 이용한 SiO, SiN Etch 관련 문의드립니다. [1] 192
18 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 191
17 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 186
16 plasma striation 관련 문의 [1] file 165
15 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 165
14 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 151
13 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 149
12 Polymer Temp Etch [1] 146
쓰기
태그

Boards

XE Login