플라즈마 관련 기기 ETCH 장비군에 일하는 사원입니다

 

이번에 해당 직군으로 부서이동하여 플라즈마에 관해 잘 몰랐는데 여기서 많은 정보 얻고 있습니다

 

정말 감사드립니다

다름이 아니고 기본 용어인 VDC, VPP의 개념이 잘 이해가 안됩니다

 

둘 다 RF에 의해 발생하는 파장(?)으로 이해되고 있는데

해당 용어에 대한 설명 좀 부탁드립니다

 

해당 용어로 질문방에 검색해 가면서 이해하려 해도 기초지식이 부족한지 잘 이해가 안됩니다

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76765
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20222
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57173
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68714
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92348
730 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24340
729 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24317
728 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24174
727 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24122
726 self Bias voltage 24039
725 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23976
724 플라즈마 쉬스 23937
723 Arcing 23811
722 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23761
721 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23443
720 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23385
719 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23333
718 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23262
717 DC glow discharge 23246
716 고온플라즈마와 저온플라즈마 23129
715 No. of antenna coil turns for ICP 23097
714 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23070
713 CCP/ICP , E/H mode 22988
712 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22944
711 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22853

Boards


XE Login