Chamber component 알고싶습니다
2020.09.09 11:31
안녕하세요. 반도체 장비부품쪽 업종에서 일을 하고 있습니다.
현재 Etch 장비를 Coating 후 1Cycle을 사용한 후 Particle Issue가 일어나 중간에 세정을 진행하여 장착하면 E/R값이 상승합니다.
E/R값을 잡기 위해서 세정후에 Coating면에 Plasma를 조사하면 어떨까 하는데 효과가 있을지가 궁금하고 E/R값이 전반적으로 어떤 것에 영향이 미치는지 궁금합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76886 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20282 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57200 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68758 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92712 |
| 519 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9539 |
| 518 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9533 |
| 517 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9266 |
| 516 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9256 |
| 515 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9044 |
| 514 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9005 |
| 513 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8929 |
| 512 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8758 |
| 511 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8740 |
| 510 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8710 |
| 509 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1]  | 8621 |
| 508 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8620 |
| 507 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8584 |
| 506 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8583 |
| 505 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8582 |
| 504 | 핵융합에 대하여 | 8564 |
| 503 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8139 |
| 502 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8127 |
| 501 | 고온 플라즈마 관련 | 8090 |
| 500 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8054 |