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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동]
[2] | 2010 |
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363 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율]
[1] | 2010 |
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362 |
wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
[1] | 2002 |
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361 |
CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information]
[1] | 1981 |
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360 |
standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계]
[1] | 1979 |
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359 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [Wafer bias와 chuck cap]
[1] | 1978 |
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358 |
가입인사드립니다.
[1] | 1961 |
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357 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
| 1956 |
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RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law]
[1] | 1943 |
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355 |
ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition]
[1] | 1914 |
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354 |
CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry]
[3] | 1909 |
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353 |
터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력]
[1] | 1884 |
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352 |
EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
[1] | 1879 |
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351 |
Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어]
[1] | 1870 |
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350 |
압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건]
[1] | 1850 |
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349 |
Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence]
[1] | 1827 |
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348 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma]
[1] | 1816 |
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347 |
ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 1806 |
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346 |
PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착]
[1] | 1801 |
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345 |
Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]
[1] | 1797 |
