ESC 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
2020.08.12 09:14
안녕하십니까 김곤호 교수님
ESC를 공부하다가 어려운 내용이 있어서 이렇게 글을 올려봅니다.
전극 형태만 다르고 모두 같은 조건의 ESC중에 (interdigital 형식 전극과 Capacitor 형식의 전극이 큰 전극)
Chucking Force가 어떤 것이 높은지 궁굼합니다.
또 이 두가지의 장단점을 조금만 설명해 주시면 큰 도움이 될 것 같습니다.
대략적인 사진 첨부 드립니다. 컨펌 부탁드리겠습니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76848 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20256 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57192 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68745 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92605 |
337 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1818 |
336 | wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] | 1806 |
335 | Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] | 1769 |
334 | 터보펌프 에러관련 [1] | 1767 |
333 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1755 |
332 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 1745 |
331 | 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] | 1706 |
330 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 1700 |
329 | 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] | 1692 |
328 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1685 |
327 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1673 |
326 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1670 |
325 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1669 |
324 | EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] | 1664 |
323 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1635 |
322 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1618 |
321 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1618 |
» | 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] | 1605 |
319 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1568 |
318 | plasma 형성 관계 [1] | 1538 |