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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
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322 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning]
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반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
[1] | 1543 |
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Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1537 |
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플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature]
[1] | 1534 |
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318 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]
[1] | 1531 |
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MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
[3] | 1529 |
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316 |
Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘]
[1] | 1527 |
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Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source]
[1] | 1523 |
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314 |
Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1519 |
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313 |
강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net]
[2] | 1517 |
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312 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
[1] | 1513 |
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311 |
Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정]
[2] | 1510 |
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310 |
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
[1] | 1504 |
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O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model]
[1] | 1504 |
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308 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 1491 |
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307 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
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306 |
CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실]
[1] | 1485 |
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305 |
Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
[3] | 1469 |
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304 |
low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전]
[1] | 1466 |
