안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.


pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side bottom에 달았습니다.


여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76771
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20224
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57176
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68720
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92375
151 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 712
150 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 711
149 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 709
148 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 707
147 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 706
146 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 698
145 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 694
144 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 690
143 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 689
142 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 689
141 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 680
140 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 671
139 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 670
138 Polymer Temp Etch [1] 665
» analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 657
136 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 645
135 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 636
134 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
133 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 628
132 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 618

Boards


XE Login