Process OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
2022.12.07 14:13
안녕하세요.
Etching과 Deposition을 같이 최근에 공부를 시작하고 있는 회사원입니다.
다름이 아니라,
최근 기사에서 LCD->OLED로 넘어가는 과정에서 OLED 특성상(유기발광체 때문??) SF6를 NF3로 대체가 어렵다는
내용의 기사를 봤습니다.
질문은
1. OLED에서 SF6는 어느공정(Etching / Chamber Cleaning / ??)에 주로 사용되나요?
2. SF6를 NF3로 대체할 수 있는 이유는 뭔가요?
3. CF4도 사용되는 것으로 아는데, 어느공정에 주로 사용되나요?
고수님들의 답변 부탁드립니다.
가지고 계신 문헌과 특허라도 알려주시면 크게 감사드립니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76734 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
589 | 플라즈마 온도중 Tr의 의미 | 17802 |
588 | 교육 기관 문의 | 17781 |
587 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17778 |
586 | 플라즈마에서 전자가 에너지를 어느 부분에서.. | 17751 |
585 | RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] | 17704 |
584 | 충돌 | 17701 |
583 | Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. | 17672 |
582 | 플라즈마와 자기장의 상호작용 | 17626 |
581 | 불꽃이 쫒아오는 이유 | 17621 |
580 | 유전체 플라즈마 | 17556 |
579 | RF 변화에 영향이 있는건가요? | 17510 |
578 | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] | 17452 |
577 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 17421 |
576 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17333 |
575 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17191 |
574 | 플라즈마를 이용한 발광시스템에 관한 연구 | 17087 |
573 | Light flower bulb | 17079 |
572 | PSM을 이용한 Radical측정 방법 | 17073 |
571 | RF에 대하여,, | 17042 |
570 | 형광등으로 부터 플라즈마의 이해 | 17001 |
먼저 성균대학교 염근영교수님의 역저, "플라즈마 식각기술"을 추천드립니다.