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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64220
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84270
372 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5142
371 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5012
370 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4945
369 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 4873
368 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4624
367 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4388
366 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4277
365 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 4252
364 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4067
363 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4055
362 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3952
361 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3840
360 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3827
359 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3682
358 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3587
357 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3535
356 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3512
355 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3433
354 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3264
353 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3104

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