개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:53021 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5798
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17210
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53021
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64472
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85086
378 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5223
377 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5089
376 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4997
375 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 4958
374 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4734
373 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4531
372 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4468
371 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 4437
370 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4232
369 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4121
368 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3956
367 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3953
366 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3945
365 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3899
364 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3886
363 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3605
362 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3589
361 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3544
360 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3439
359 플라즈마 색 관찰 [1] 3250

Boards


XE Login