안녕하세요. 대기압 플라즈마 관련 회사를 다니고 있는 청년입니다.

최근에 보다 높은 밀도의 플라즈마를 얻기 위한 공부를 하고 있습니다.

플라즈마의 밀도가 높아지면 라디컬의 밀도도 높아지고 그에 따라 처리효과 (예를 들면 오염물 제거) 도 좋아 질 것이라고 생각합니다.

특허에 있는 방법으로는 반응기 자체를 가열 하는 방법이 있었습니다.

그외에 플라즈마 밀도를 높이기 위한 방법은 없는지 궁금합니다.

플라즈마에 대한 지식이 짧아 질문이 정확하지 못합니다. 죄송합니다 ㅠㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76792
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20229
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68723
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92479
471 자료 요청드립니다. [1] 6207
470 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6195
469 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6074
468 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 6013
467 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5932
466 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5914
465 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5872
464 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5817
463 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5681
462 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5549
461 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5465
460 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5293
459 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5163
458 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5073
457 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4988
456 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4825
455 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4498
454 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4329
453 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4281
452 플라즈마 색 관찰 [1] 4273

Boards


XE Login