안녕하세요.


우선 이런 홈페이지가 있는 줄은 몰랐습니다. 많은 글들이 올라와 있고 질문과 답변이 활발한 것 같습니다. 앞으로 많은 참고가 될 홈페이지인 것 같습니다. 이런 홈페이지를 만들고 관리하고 계셔서 감사드립니다.


저는 광주과학기술원의 물리 광과학과에서 공부하고 있는 박사과정생 장동규 라고 합니다. 저희 연구실에서 최근 13.56 MHz RF power 에서 작동하는 Solenoid 형 ICP (Inductively Coupled Plasma) 를 만들어서 연구를 수행하고 있습니다. 최근에 ICP 의 임피던스를 측정해볼 필요성이 생겼습니다만, 저희 연구실이 원래 이쪽을 하던 곳이 아니라서 딱히 물어볼 곳이 없었는 데 이렇게 질문을 할 수 있는 공간을 찾게 되어 다행이라고 생각합니다.


처음에는 단순하게 생각했습니다. 오실로스코프와 연결해서 쓰는, 흔한 voltage probe 와 current transformer 를 Impedance matcher 의 출력단 (가능하다면 ICP coil 에 직접 연결해서 측정을 하고 싶지만 ICP 가 비교적 뜨거울 것이고 강한 전자기파도 발생하고 있을 것이기 때문에 위험하지 않을 까 싶어 matcher 의 출력단을 측정 장소로 정했습니다) 에 물려서 voltage 와 current 의 파형을 얻고 voltage 와 current 의 amplitude 그리고 서로간의 phase 차이를 구하여 ICP 의 임피던스를 구하려고 했습니다 (물론 정확히 말하면, ICP coil + plasma 의 임피던스를 측정하는 것입니다). 그런데 제가 RF generator 회사의 엔지니어 분께 이런 방법이 가능한지에 대하여 문의를 드렸을때, 이런 방법으로 하면 voltage probe 의 capacitance 가 ICP 에 일부 영향도 주고 RF generator 에서 나오는 power 의 일부가 voltage probe 로 넘어가기 때문에 위험할 수 있다는 답변을 들었습니다. ICP 가 high voltage device 도 아니기 때문에 안전할 거라고 생각했는 데 제가 잘못 생각했는지 모르겠습니다. 그 분께서는 VI probe 라는 걸 이용하면 ICP 임피던스의 측정이 가능하다고 말씀하셨는 데, 이 부분에 대해서는 제가 공부가 좀 더 필요한 것 같습니다. 만일 이 장비가 비싸면 저희 연구실에서 사용하기 어려울 수도 있다는 생각도 듭니다.


ICP 의 임피던스를 측정하는 일반적인 방법들에는 어떤 것이 있는 지 알려주실 수 있으시겠는지요. 대략적이나마 알려주시면 그걸 바탕으로 공부를 할 수 있을 것 같습니다.


설 잘 보내시고 새해 복 많이 받으시기를 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
463 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6201
462 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6126
461 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6046
460 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5939
459 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5911
» 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5870
457 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5786
456 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5735
455 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5649
454 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5465
453 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5423
452 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5185
451 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5116
450 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5022
449 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4740
448 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4722
447 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] update 4365
446 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4296
445 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4244
444 플라즈마 색 관찰 [1] 4194

Boards


XE Login