|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
| 111648 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 27914 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 65191 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 77002 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 111293 |
|
496 |
RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage]
[2] | 5481 |
|
495 |
Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마]
[1] | 5314 |
|
494 |
플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응]
[1] | 5168 |
|
493 |
플라즈마 색 관찰 [플라즈마 빛과 OES신호]
[1] | 5132 |
|
492 |
Dry Etching Uniformity 개선 방법 [장치 구조에 따른 공간 분포]
[2] | 5053 |
|
491 |
RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수]
[1] | 5041 |
|
490 |
Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor]
[3] | 4970 |
|
489 |
HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue]
[1] | 4955 |
|
488 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
| 4862 |
|
487 |
진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas]
[1] | 4806 |
|
486 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [플라즈마 물리/화학적 특성, 중성입자 거동 및 자기장 성질]
[1] | 4784 |
|
485 |
플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE]
[1] | 4707 |
|
484 |
ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘]
[2] | 4704 |
|
483 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss]
[3] | 4698 |
|
482 |
SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율]
[1] | 4697 |
|
481 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model]
[2] | 4640 |
|
480 |
플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath]
[1] | 4607 |
|
479 |
Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색]
[1] | 4569 |
|
478 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간]
[1] | 4533 |
|
477 |
Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리]
[1] | 4515 |