안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68747
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457 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4200
456 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4164
455 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4046
454 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3981
453 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3978
452 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3970
451 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3950
450 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3945
449 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3834
448 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3834
447 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3796
446 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3743
445 Descum 관련 문의 사항. [1] 3736
444 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3708
443 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3657
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