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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[220]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1970 |
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327 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1945 |
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326 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 1940 |
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325 |
[RIE] reactive, non-reactive ion의 역할
[1] | 1939 |
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324 |
플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1914 |
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323 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
[1] | 1912 |
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322 |
chamber impedance
[1] | 1910 |
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321 |
doping type에 따른 ER 차이
[1] | 1892 |
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320 |
13.56MHz resonator 해석 관련 문의
[1] | 1877 |
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319 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다.
[1] | 1864 |
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가입인사드립니다.
[1] | 1854 |
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317 |
잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.
[1] | 1822 |
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316 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1821 |
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315 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1816 |
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3 stub 정합에 대해 궁금합니다.
[1] | 1800 |
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!?
[2] | 1782 |
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312 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
[2] | 1780 |
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안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다.
[1] | 1777 |
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
| 1777 |
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1770 |
