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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 76929
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416 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2949
415 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간] [2] 2948
414 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAT <-> STAGE HEATER 간 GAP과 DEPO 막질의 THK와의 연관성…. [Plasma property와 process control] [1] 2937
413 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2929
412 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2920
411 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking] [1] 2916
410 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2903
409 산소 양이온의 금속 전극 충돌 현상 [플라즈마 표면 반응] [1] 2863
408 Etch 공정(PE mode) Vpp 변동 관련. [Self bias 형성 과정과 전자의 에너지] [1] 2851
407 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux] [1] 2846
406 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2845
405 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다. [플라즈마 특성변화와 SH impedance 변화] [1] 2841
404 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2832
403 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2830
402 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2826
401 etching에 관한 질문입니다. [충돌 현상 및 이온화 과정] [1] 2796
400 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2784
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