Matcher MATCHER 발열 문제

2018.04.11 18:14

심국보 조회 수:1441

안녕하세요

Ar + O2 wafer 크리닝 설비에

AE사 의 1000W 짜리 RF파워랑 매쳐를 사용하고 있는데요

공정조건이 진공도 250mTorr에 800W에 800초인데 공정진행중 

MATCHER 내부에 TUNE 코일을 고정하는 세라믹부에 발열이 너무 심해서 타버렸습니다.

왜 이런 현상이 일어나는지 조언좀 얻을수 있을까요

챔버의 임피던스 문제인지 매쳐가 고장인지....ㅠ

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76973
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20329
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57248
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68799
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92791
301 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
300 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1442
» MATCHER 발열 문제 [3] 1441
298 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1439
297 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1427
296 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1422
295 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1421
294 플라즈마 관련 교육 [1] 1418
293 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1409
292 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1398
291 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1396
290 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1394
289 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
288 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1388
287 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1382
286 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1380
285 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1373
284 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1371
283 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1359
282 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1353
쓰기
태그

Boards

XE Login