안녕하세요, 교수님.

CCP Plasma 를 이용해 SiH4 와 N2O gas 를 flow 시키면서 SiO2 막질을 형성하는 공정 진행중, Chamber wall 부분에서 특이점이 발생하여 문의드립니다.

Chamber 내부에 형성된 plasma 보다 밝기는 더 밝은 모양의 Parastic plasma 가 chamber wall 부분을 따라 계속해서 왔다 갔다 움직이는 현상입니다.

RF power 가 지나가는 path 의 component 연결상태를 다시 확인 후 다시 plasma 를 켰을때, parastic plasma 의 위치만 변했을 뿐, 현상은 동일합니다.

이와 같은 현상이 발생하는 원인이 무엇일까요? Chamber 내부 conditioning 이 덜 되어서 일지, 아님 실제로 RF power loss 가 Capacitively Coupled 된 두 기판 사이의 어디선가 발생하여 기인된  것일까요?

답변 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77294
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20491
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57410
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68940
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92987
310 Ar plasma power/time [1] 1459
» PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1455
308 MATCHER 발열 문제 [3] 1455
307 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1452
306 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1451
305 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1444
304 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1444
303 플라즈마 관련 교육 [1] 1442
302 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1440
301 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1434
300 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1427
299 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1419
298 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1414
297 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1411
296 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1407
295 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1401
294 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1400
293 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1385
292 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1380
291 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1378

Boards


XE Login