안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76953
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20319
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57240
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68788
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92780
301 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
300 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1442
299 MATCHER 발열 문제 [3] 1441
298 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1439
297 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1427
296 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1422
295 플라즈마 관련 교육 [1] 1417
294 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1417
293 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1409
292 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1398
291 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1395
290 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1394
289 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1393
» Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1386
287 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1381
286 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1377
285 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1371
284 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1371
283 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1358
282 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1351

Boards


XE Login