공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[332]
| 102930 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 24689 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 61435 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 73481 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 105845 |
313 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning]
[1] | 1734 |
312 |
low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전]
[1] | 1729 |
311 |
O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model]
[1] | 1711 |
310 |
Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정]
[2] | 1708 |
309 |
플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건]
[2] | 1688 |
308 |
Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
[3] | 1687 |
307 |
I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석]
[1] | 1676 |
306 |
강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net]
[2] | 1672 |
305 |
잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드]
[1] | 1671 |
304 |
RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
| 1662 |
303 |
플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor]
[1] | 1659 |
302 |
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
[1] | 1646 |
301 |
식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering]
[1] | 1643 |
300 |
DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [Plasma actuator와 DBD 방법]
[3] | 1641 |
299 |
전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과]
[1] | 1635 |
298 |
Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해]
[1] | 1628 |
297 |
MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의]
[1] | 1625 |
296 |
임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [플라즈마 전류량]
[1] | 1625 |
295 |
RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭]
[2] | 1624 |
294 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응]
[1] | 1621 |