Others 형광등에서 일어나는 물리적인 현상

2004.06.19 17:02

관리자 조회 수:18537 추천:265

저도 형광등에서 일어나는 물리적인 형상에 관해서 경험이 없기 때문에 전반적인 설명은 방명록 번호 97, 98번에 나와있는 것을 참고하시기 바랍니다.
참고로 뚱단지님의 형광등에 대한 설명에서 제가 몇가지를 수정/보완 할까 합니다.

1. "Ion의 Implantation에 의해 검게 코팅이 되는 효과가 나타난다"고 하셨는데 제 생각에는 Film Coating이라고 생각됩니다. Implantation은 높은 에너지의 이온을 필요로 하지요.

2. "이 대 주파수를 주는 것은 이온이 충분히 반응할 수 있을 만큼 줌으로써 Self Bias현상은 나타나지 않게 한다."이라 했는데 이온의 운동을 무시할 정도의 주파수는 플라즈마 조건에 따라 틀리지만 최소 수백 kHz 이상이 되어야만 한다고 새악ㄱ합니다. 인버터에서 그 정도의 주파수를 만드는지는 모르겠습니다. 그리고 Self Bias현상은 잘 애해가 되지 않는군요. 방명록의 이전 Q&A를 찾아보면 성명이 나오니가 참고하십시요.

3. "이온이 형광램프의 벽을 치기 전에 극성이 바뀌어 이온과 벽과의 충돌횟수가 줄어들어 검게 변하는 현상이 줄어든다." 앞서 설명한 것처럼 수백 kHz 이상이 되지 않으면 이온과 벽과의 충돌횟수가 줄어드는 효과를 볼 수 없습니다.

4. RF 플라즈마의 전위는 입력전력에 따라 변할 수 있습니다. 그리고 플라즈마의 on/off 현상은 대체로 주파수가 100kHz 이하에서는 플라즈마가 on/off 된다고 합니다. 그러나 100kHz는 절대값이 아니고 Chamber의 크기 Discharge의 종류에 따라 달라질 수 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76934
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20308
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57227
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68778
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92762
280 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1342
279 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1336
278 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1331
277 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1331
276 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1321
275 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1310
274 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1306
273 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1304
272 플라즈마 기초입니다 [1] 1294
271 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1284
270 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1277
269 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1268
268 플라즈마 챔버 [2] 1261
267 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1255
266 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1249
265 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1246
264 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1228
263 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1227
262 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1210
261 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1206

Boards


XE Login