Others Group Delay 문의드립니다.

2019.06.26 14:07

워니규니 조회 수:1170

안녕하세요

회사에서 필터 연구를 하고 있는 김동규 라고 합니다.

궁금한점이 있는데요, 마땅히 물어볼만한 곳이 없어서 이곳에서 혹시나 도음을 얻을 수 있을까해서 문의 드립니다.

계측기에서 필터 특성 값 S21, S12 값을 뽑아 냈는데요

파일이 실수와 허수 값으로 나타나 있습니다.

예를 들면

1800MH에서 S21RE는 -0.0000926, S21IM은 0.0001257
1800.5MHz 에서 S21RE는 -0.0001249, S21IM은 0.0000956

이렇게 주파수 별로10Gz 까지 나열 되어있는데요

위 값만 가지고 계산으로 Group delay 값을 구할 수 있을까요?
(계측기에서 볼 수 있지만 엑셀 파일로 계산에서 보고 싶거든요)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [297] 77470
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20570
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57503
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69017
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93121
274 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1244
273 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1223
272 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1222
271 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1219
270 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1215
269 전자 온도 구하기 [1] file 1213
268 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1205
267 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1201
266 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1201
265 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1201
264 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1196
263 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1191
262 공정플라즈마 [1] 1183
261 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1180
260 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1174
259 wafer bias [1] 1174
» Group Delay 문의드립니다. [1] 1170
257 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1166
256 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1165
255 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1164

Boards


XE Login