Others Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.
2020.06.08 18:29
안녕하십니까 교수님
공정 실습 중 Dechucking 이슈에 대해 궁금증이 있어 이렇게 글을 남깁니다.
제가 확인한 이슈는 dechucking 이후 핀업 진행 시 웨이퍼가 슬라이딩 하는 문제였는데, 해당 이슈에 대해 config값을 (0->5)변경하여 He flow가 되도록 조치했다는 것을 알았습니다.
chucking 과정중 He의 역할이 온도를 낮추는 역할 정도로 알고 있는데, He 가스가 chucking에서 어떤 역할들을 하는지 궁금합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76734 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68701 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
249 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1177 |
248 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1174 |
247 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1169 |
246 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1164 |
245 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1157 |
244 | O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 | 1157 |
243 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1156 |
242 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1156 |
241 | 공정플라즈마 [1] | 1145 |
240 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1144 |
239 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1141 |
238 | 자기 거울에 관하여 | 1139 |
237 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1132 |
236 | 전자 온도 구하기 [1] | 1131 |
235 | wafer bias [1] | 1129 |
234 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1121 |
233 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1118 |
232 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1117 |
231 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1113 |
230 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1113 |
성균관 대학교 김태성교수님 연구실로 문의하시면 좋은 답변을 구하실 수 있을 것 같습니다. chucking/dechucking에서 생성될 수 있는 파티클 제어까지 고려해야 할 것 같습니다.