기초적인 질문인데요

PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요

Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.

 

Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.

감사합니다.

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