Others Full Face Erosion 관련 질문

2008.12.16 08:24

이태성 조회 수:19461 추천:193

안녕하세요.
Full face erosion 관련 자료를 찾던 중 이곳까지 오게되었습니다. 인터넷검색으로는 자료를 찾을수가 없어서
이렇게 글을 올립니다.

high deposition rate가능, long time process가능, 간단한 process control
등의 장점은 대충 알고 있으나, 어떠한 구조인지, 어떠한 원리로 위의 장점들이 가능한지,
단점은 무엇인지, 기존 sputter와 차이점 등등 FFE에 대한 자세한 내용을 알고싶습니다.

답변해 주시면 정말 많은 도움이 될 것같습니다.
자료를 올려주셔도 괜찮습니다 ^^;;;
사회초년생으로서 배울것이 너무 많은것 같네요.
염치없지만 부탁드립니다 ㅠ.ㅠ      

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76751
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20217
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57170
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68707
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92313
230 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1105
229 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1088
228 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1082
227 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1073
226 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1068
225 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1067
224 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1062
223 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1060
222 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1058
221 Plasma Arching [1] 1052
220 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1050
219 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1045
218 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1038
217 플라즈마 코팅 [1] 1037
216 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1031
215 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1030
214 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1022
213 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1017
212 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1016
211 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1011
쓰기
태그

Boards

XE Login