번호 제목 조회 수
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61116
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 79628
619 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25724
618 self bias (rf 전압 강하) 25677
617 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25297
616 충돌단면적에 관하여 [2] 25241
615 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24927
614 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24452
613 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24450
612 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24314
611 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24242
610 플라즈마가 불안정한대요.. 24220
609 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24218
608 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24010
607 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 23817
606 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 23624
605 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23476
604 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23117
603 플라즈마 쉬스 23062
602 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 22994
601 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 22935
600 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 22919

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