Plasma in general 산소 플라즈마에 대한 질문입니다...
2018.11.15 10:26
이제 막 플라즈마에 대해 공부하고 있는 학생입니다.
산소와 아르곤 플라즈마를 이용해 물질을 처리하려고 하는데요
실험전에 아르곤플라즈마와 산소플라즈마를 조금씩 섞어줄 떄 온도 변화를 먼저 측정해 봤었는데요
산소를 섞어줄수록 중심으로부터 안테나부근의 온도들은 아르곤만 있었을 때보다 떨어졌으나
거의 챔버의 끝에서는 오히려 산소플라즈마를 섞은 것이 온도가 더 높게 측정되었습니다..
이유가 무엇일까요..?
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [272] | 76805 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20240 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57185 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68736 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92560 |
752 | 플라즈마 온도 | 27796 |
751 | DBD란 | 27731 |
750 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 | 27631 |
749 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27214 |
748 | 이온과 라디칼의 농도 | 27004 |
747 | self bias (rf 전압 강하) | 26722 |
746 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26477 |
745 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 26199 |
744 | 충돌단면적에 관하여 [2] | 26171 |
743 | OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] | 26158 |
742 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 25583 |
741 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24987 |
740 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24882 |
739 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 24869 |
738 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24774 |
737 | ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] | 24756 |
736 | plasma와 arc의 차이는? | 24712 |
735 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24656 |
734 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 24601 |
733 | 플라즈마가 불안정한대요.. | 24518 |