Etch 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량

2023.02.09 13:21

텅스텐 조회 수:369

안녕하세요. 반도체 회사 재직중인 설비엔지니어입니다.

 

텅스텐 DEPO 설비 유지보수 중에 RF Plasma를 통한 텅스텐 Cleaning에 문제점이 생겨 조언을 얻고자 질문드립니다.

 

텅스텐 Plasma Clean 조건

2100W Generator Power / C2F6 : O2 (1:1 비율) / 300mTorr Chamber Pressure / 13.56MHZ Matcher

 

Plasma Cleaning 진행 중 깜빡깜빡이는 현상이 확인되며 PM을 하고자 Chamer Open 했을 때

텅스텐이 Etching 되지 않고 Heater 및 Shower Head에 텅스텐이 그대로 남아있는 현상이 발생했습니다.

 

관련하여 챔버에 압력/Clean gas/RF 계통의 Part들을 교체해 보고 있으나 현상이 개선되지 않아

플라즈마 깜빡깜빡이는 현상이 Etching 효율을 떨어뜨리는 걸로 보이는데 문제점이 무엇일지 조언 받고싶습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76870
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
757 플라즈마 온도 27806
756 DBD란 27749
755 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27648
754 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27217
753 이온과 라디칼의 농도 file 27018
752 self bias (rf 전압 강하) 26736
751 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26487
750 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26212
749 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26191
748 충돌단면적에 관하여 [2] 26177
747 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25586
746 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24987
745 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24892
744 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24883
743 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24777
742 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24761
741 plasma와 arc의 차이는? 24743
740 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24667
739 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24611
738 플라즈마가 불안정한대요.. 24523

Boards


XE Login