안녕하세요

측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.

 

ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.

Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.

 

안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...

이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?

 

혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.

바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
217 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1015
216 고진공 만드는방법. [1] 1014
» RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1013
214 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1005
213 anode sheath 질문드립니다. [1] 1000
212 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 991
211 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 990
210 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 979
209 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 976
208 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 974
207 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 969
206 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 966
205 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 963
204 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 959
203 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 944
202 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 929
201 Plasma Generator 관련해서요. [1] 912
200 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 905
199 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 896
198 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 893

Boards


XE Login