Plasma Source ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS]

2020.12.27 15:04

고려대-김지수 조회 수:868

안녕하세요 고려대학교 가속기과학과 김지수 학생입니다.

 

ECR ion source를 연구중인데 ECR chamber에 GAS를 주입하고 RF를 인가중 플라즈마가 켜지게 되면

 

RF Reflect가 엄청 많아집니다. RF 주파수를 위아래로 조절해 보아도 Rflect가 기본 base line처럼 깔려서 낮아지질 않네요

 

Plasma상태에 따라서 RF reflect가 많이 달라질까요? 달라진다면 어떤 plasma 상태를 만들어야 될까요?

이 게시물을
Profile
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] 78473
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21040
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57867
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69400
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93945
221 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 986
220 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [광운대 플라즈마 바이오 연구소] [1] 985
219 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 984
218 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 980
217 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 979
216 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 976
215 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 973
214 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 965
213 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 962
212 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 948
211 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 935
210 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 921
209 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 917
208 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 913
207 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [용사 코팅] [1] 912
206 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 910
205 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 906
204 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 902
203 RF 파워서플라이 매칭 문제 896
202 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 892
쓰기
태그

Boards

XE Login