개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57149 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76654
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20148
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57149
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92130
147 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 705
146 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 702
145 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 700
144 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 695
143 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 694
142 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 693
141 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 690
140 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 683
139 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 678
138 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 671
137 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 670
136 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 668
135 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 662
134 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 656
133 Polymer Temp Etch [1] 649
132 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 634
131 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 632
130 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 626
129 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 623
128 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 615

Boards


XE Login